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微電子行業制備超純水流程中，因紫外線技術在超純水高品質要求中不引入新的物質，而得到廣泛應用。
有機物是超純水系統中最難控制的污染，隨著集成電路臨界尺寸不斷縮小挑戰，對超純水中TOC值的要求越來越高，因此，如何配置紫外線，如何確認配置中紫外線設備的有效紫外劑量，進而使TOC去除合格且水中溶解氧不升高，安力斯將為您解決這些運營困擾。
185nmUV主要用于去除超純水制備過程中的TOC，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。
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TOC超純水
產品規格：
| 處理水量 | 2~60m3/h |
| 燈管配置 | 12~48支 |
| 燈管類型 | 85w/155w(185/254nm雙波段) |
| 石英套管 | T＞80%@185nm |
| 鎮流器 | 50~100%輸出功率可調 |
| 反應器材質 | 316L |
| 潔凈等級 | 內外電解拋光、表面光潔度10以上（≤Ra0.2） |
| 法蘭尺寸 | DN50~DN200 |
| 額定壓力 | PN10 |
| 控制柜等級 | IP55，碳鋼噴塑 |
| 控制系統 | 本地/遠程、觸摸屏、連接SCADA系統 |
| UV強度傳感器 | 分辨率0.01mw/cm2 |
地址：北京市海淀區上地信息路11號彩虹大廈北樓一層東段110室
郵箱：zhangjun@onyxepi.com
